[发明专利]一种多腔体CVD设备分布式控制系统及其方法在审
| 申请号： | 202110795610.5 | 申请日： | 2021-07-14 |
| 公开（公告）号： | CN113359409A | 公开（公告）日： | 2021-09-07 |
| 发明（设计）人： | 朱力;燕春;杨进 | 申请（专利权）人： | 江苏天芯微半导体设备有限公司 |
| 主分类号： | G05B9/03 | 分类号： | G05B9/03 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 南慧荣;徐雯琼 |
| 地址： | 214028 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种多腔体CVD设备分布式控制系统及其方法，包含：多个工控设备，各个工控设备分别保存各个功能腔体的数据信息并分别控制各个功能腔体的状态；第一交换机，各个工控设备与第一交换机连接；控制主机，与第一交换机连接，控制主机存储全局公共数据，控制主机通过第一交换机对各个工控设备进行命令调度和数据存储，当工艺需要的一个或多个工控设备发生故障，所述控制主机将所需的故障的工控设备的数据信息复制安装到正常运转的工控设备上，并执行其对应的工艺过程。其优点是：该系统将工控设备、第一交换机和控制主机等相结合，控制主机将故障的工控设备对应的数据信息复制安装到另一台工控设备上，以保证CVD设备整体工艺的顺利。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 多腔体 cvd 设备 分布式 控制系统 及其 方法 | ||
【主权项】：
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