[发明专利]亚波长光栅及垂直腔面发射激光器在审

专利信息
申请号: 202110797498.9 申请日: 2021-07-14
公开(公告)号: CN113488846A 公开(公告)日: 2021-10-08
发明(设计)人: 戚宇轩;李伟;刘素平;马骁宇 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01S5/183 分类号: H01S5/183;H01S5/065
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 孙纪泉
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种亚波长光栅及垂直腔面发射激光器。其中,亚波长光栅包括:氧化铟锡形成的基底层(2);以及非晶硅或砷化铝镓形成的光栅层(1),所述光栅层形成于所述基底层(2)上。基于以氧化铟锡形成的基底层(2)的亚波长光栅作为P面反射镜的垂直腔面发射激光器,包括发光器件;以及亚波长光栅,所述亚波长光栅设置在所述发光器件的P型掺杂层的上(4)。其中的发光器件,包括:由下至上依此层叠的衬底(8)、N型掺杂层(7)以及支撑台(10);所述衬底的底面设置有下电极(9)。
搜索关键词: 波长 光栅 垂直 发射 激光器
【主权项】:
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