[发明专利]一种基于一次性曝光的液晶薄膜消偏器及其制备方法在审
| 申请号： | 202110803905.2 | 申请日： | 2021-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN113504598A | 公开（公告）日： | 2021-10-15 |
| 发明（设计）人： | 马营;尹明奎;单宇航;刘笑雨;甘雪涛;赵建林 | 申请（专利权）人： | 西北工业大学 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 上海创开专利代理事务所(普通合伙) 31374 | 代理人： | 李兰兰 |
| 地址： | 710129 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于一次性曝光的液晶薄膜消偏器及其制备方法，包括玻璃基板、位于所述玻璃基板相对面上的光控取向层以及位于所述玻璃基板及光控取向层上的液晶层，所述液晶薄膜的液晶分子指向由所述基板面上的光控取向层控制，所述光控取向层具有多组相同或不同随机取向图案组成，同一微区图形内分子指向矢相同；本发明的系统配置简单，且同时可制备液晶取向任意均匀随机分布的液晶消偏器，通过一次性曝光快速制备任意液晶光学器件，无需对液晶进行多次分割操作并对其多次曝光，因而避免了精度要求过高的问题，液晶薄膜消偏器可消偏区域面积较大，偏振精度更好，可对单色光源有效消偏且在小光斑孔径下仍然有良好的消偏效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 一次性 曝光 液晶 薄膜 消偏器 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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