[发明专利]一种MEMS气体传感器及制作方法有效

专利信息
申请号: 202110819966.8 申请日: 2021-07-20
公开(公告)号: CN113406156B 公开(公告)日: 2023-09-26
发明(设计)人: 陈学志;杨云春;郭鹏飞;陆原 申请(专利权)人: 赛莱克斯微系统科技(北京)有限公司
主分类号: G01N27/12 分类号: G01N27/12
代理公司: 北京众达德权知识产权代理有限公司 11570 代理人: 梁凯
地址: 100176 北京市大兴区北京经济技术开发*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及气体传感器技术领域,尤其涉及一种MEMS气体传感器及制作方法,该方法包括:衬底,介质层,形成于所述衬底上;绝缘层,形成于所述介质层上;气敏电极,所述气敏电极嵌入至所述绝缘层中,且所述气敏电极的上表面与所述绝缘层的上表面处于同一水平面。本发明使气敏电极下沉至绝缘层中,使绝缘层上表面是平坦的;在后续沉积气敏膜时,使得气敏膜厚均和密度均能均匀分布,还会导致形成的气敏膜的膜表面积增大,提高气体传感器的敏感度。
搜索关键词: 一种 mems 气体 传感器 制作方法
【主权项】:
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