[发明专利]一种高阻氧化镓晶体及其制备方法与应用有效

专利信息
申请号: 202110825757.4 申请日: 2021-07-21
公开(公告)号: CN113622027B 公开(公告)日: 2022-12-16
发明(设计)人: 唐慧丽;李志伟;刘波;徐军;罗平;吴锋;王庆国;张超逸 申请(专利权)人: 同济大学
主分类号: C30B29/16 分类号: C30B29/16;C30B11/04;C30B13/10;C30B15/04;C30B15/34;H01L31/0224;H01L31/032;H01L31/115
代理公司: 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 代理人: 顾艳哲
地址: 200092 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种高阻氧化镓晶体及其制备方法与应用,所述高阻氧化镓晶体的分子式为β‑(Ga1‑xAlx)2O3,其中x的取值范围为0.07≤x≤0.3,采用包括光学浮区法、提拉法、导模法或下降法的熔体生长方法制备得到。与现有技术相比,本发明提供的掺铝高阻氧化镓晶体的电阻率≥109Ω·cm,晶体结晶质量高,基于该高阻氧化镓晶体制备的辐射探测器具有制作工艺简单、暗电流小、光暗电流比高、响应速度快、灵敏度高、信噪比高、能量分辨率好等优点。
搜索关键词: 一种 氧化 晶体 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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