[发明专利]一种高阻氧化镓晶体及其制备方法与应用有效
申请号: | 202110825757.4 | 申请日: | 2021-07-21 |
公开(公告)号: | CN113622027B | 公开(公告)日: | 2022-12-16 |
发明(设计)人: | 唐慧丽;李志伟;刘波;徐军;罗平;吴锋;王庆国;张超逸 | 申请(专利权)人: | 同济大学 |
主分类号: | C30B29/16 | 分类号: | C30B29/16;C30B11/04;C30B13/10;C30B15/04;C30B15/34;H01L31/0224;H01L31/032;H01L31/115 |
代理公司: | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人: | 顾艳哲 |
地址: | 200092 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: |
本发明涉及一种高阻氧化镓晶体及其制备方法与应用,所述高阻氧化镓晶体的分子式为β‑(Ga |
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搜索关键词: | 一种 氧化 晶体 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
暂无信息
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