[发明专利]离心薄膜真空蒸发装置在审
| 申请号： | 202110827447.6 | 申请日： | 2021-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN113368518A | 公开（公告）日： | 2021-09-10 |
| 发明（设计）人： | 严庆东 | 申请（专利权）人： | 上海大川原德莱因设备工程有限公司 |
| 主分类号： | B01D1/22 | 分类号： | B01D1/22;B01D1/30;B01D3/10 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200135 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请涉及蒸馏技术领域，尤其是涉及一种离心薄膜真空蒸发装置，其包括壳体，壳体上穿设且固定有固定轴，固定轴内转动设置有回转轴，回转轴伸入壳体内的一端固定连接有转子，转子转动设置在固定轴上，固定轴设有蒸汽入口和蒸汽出口，转子内设有蒸汽通道，壳体上设有气密机构，气密机构包括设在壳体与固定轴固定连接处内侧的内密封组件、设在壳体与固定轴固定连接处外侧的外密封组件以及设在固定轴和回转轴之间的轴密封组件。本申请具有以下效果：内密封组件在壳体与固定轴固定连接处的内侧保持密封，外密封组件在壳体与固定轴固定连接处的外侧保持密封，轴密封组件在固定轴和回转轴之间保持密封，从而使得壳体可以保持较好的气密性。 | ||
| 搜索关键词： | 离心 薄膜 真空 蒸发 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海大川原德莱因设备工程有限公司，未经上海大川原德莱因设备工程有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110827447.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
