[发明专利]点扫式成像的宽波段高光谱成像系统及其成像方法在审

专利信息
申请号: 202110833356.3 申请日: 2021-07-22
公开(公告)号: CN115683325A 公开(公告)日: 2023-02-03
发明(设计)人: 赵雪珺;黄晓春;蔡能斌;高飞;王长亮;潘明忠 申请(专利权)人: 上海市刑事科学技术研究院
主分类号: G01J1/04 分类号: G01J1/04;G01J1/42
代理公司: 上海华祺知识产权代理事务所(普通合伙) 31247 代理人: 刘卫宇
地址: 200083 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种点扫式成像的宽波段高光谱成像系统及其成像方法,该系统包括光源组件、光纤光谱仪组件、三维位移台和控制装置。光源组件包括光源、第一光纤和光源光纤会聚镜,光源通过第一光纤与光源光纤会聚镜连接;光纤光谱仪组件包括光纤光谱仪、第二光纤和光谱仪光纤会聚镜,光纤光谱仪通过第二光纤与光谱仪光纤会聚镜连接;三维位移台用于承载被测物体;光源光纤会聚镜和光谱仪光纤会聚镜均固定于三维工作台,且光源光纤会聚镜和光谱仪光纤会聚镜均聚焦于同一空间点;控制装置用于控制三维位移台的运动及接收光纤光谱仪发送的图像数据和光谱数据,获取被测物体的高光谱数据立方体。本发明制造成本低廉,光谱分辨率及空间分辨率好。
搜索关键词: 点扫式 成像 波段 光谱 系统 及其 方法
【主权项】:
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