[发明专利]发光器件及制作方法、显示装置有效
| 申请号： | 202110838059.8 | 申请日： | 2021-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN113571665B | 公开（公告）日： | 2023-03-31 |
| 发明（设计）人： | 樊燕;李鑫 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H10K50/85 | 分类号： | H10K50/85;H10K71/00;H10K59/12 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开的实施例提供了一种发光器件及制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，用以解决在保证发光器件的电性能和/或微腔效应的基础上，使得发光器件可以激发SPP耦合出光的问题。该发光器件包括相对设置的第一电极、第二电极，第二电极包括第一表面，第一表面具有第一区域和除了第一区域以外的第二区域，第二电极的第一表面为第二电极远离所述第一电极的表面中的至少一部分。发光器件还包括位于第二电极的第一表面上的成核抑制图案层和金属图案层。成核抑制图案层覆盖第二电极的第一表面的第一区域，且包括间隔分布的多个成核抑制微图案；述金属图案层覆盖第二电极的第一表面的第二区域，且露出成核抑制微图案的至少一部分。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 器件 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】：
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