[发明专利]调光单元及其制备方法、调光装置在审
| 申请号： | 202110838207.6 | 申请日： | 2021-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN113419371A | 公开（公告）日： | 2021-09-21 |
| 发明（设计）人： | 王瑛;王春雷;翟德深;张思凯;陈娟;梁鹏;巨小倩;李展;王昌银;车春城;刘昊 | 申请（专利权）人： | 北京京东方传感技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333;G02F1/1339 |
| 代理公司： | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人： | 张筱宁;宋海斌 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区北京经济技术*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请实施例提供了一种调光单元及其制备方法、调光装置。该调光单元，包括：第一基板；第一胶层，设于第一基板的一侧；第一胶层和第一基板均为透明材料；至少一层调光层，设于第一胶层远离第一基板的一侧，每个调光层均包括至少两个间隔设置的调光结构，相邻的两个调光结构之间具有第一设计间距，第一设计间距内填充有间隔结构。本申请实施例根据预先设计的第一设计间距布置各调光结构，并在相邻的两个调光结构之间的缝隙处填充间隔结构，通过拼缝尺寸设计和夹层胶分割化设计解决拼接带来的mura和气泡的问题，提高了调光效果。 | ||
| 搜索关键词： | 调光 单元 及其 制备 方法 装置 | ||
【主权项】：
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