[发明专利]一种石墨烯靶材的制备及其在磁控溅射沉积低摩擦碳薄膜中的应用有效
| 申请号： | 202110844040.4 | 申请日： | 2021-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN113564525B | 公开（公告）日： | 2022-08-30 |
| 发明（设计）人： | 张斌;贾倩;张俊彦 | 申请（专利权）人： | 中国科学院兰州化学物理研究所 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/16;C23C14/35 |
| 代理公司： | 兰州智和专利代理事务所(普通合伙) 62201 | 代理人： | 张英荷 |
| 地址： | 730000 甘*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种石墨烯靶材的制备方法，是将石墨烯和乙二醇搅拌混合均匀，干燥至手捏可以成型的至半干状态，然后置于铣好的铜制靶座模具中，加载压力100~110 MPa，保压1~1.5小时，然后在真空中环境中干燥，即得石墨烯靶材。本发明以石墨烯靶材作为溅射碳靶，采用中频磁控溅射技术在基底上溅射沉积碳薄膜，碳薄膜具有良好的结合力，且在较宽的载荷范围内都具有稳定的摩擦学性能：在3‑11N的范围内摩擦系数稳定在0.068~0.072范围，远低于传统磁控溅射沉积的纯碳薄膜。本发明将石墨烯靶材用于溅射沉积碳薄膜，可以直接将石墨烯复合到不含氢碳薄膜中，获得优异摩擦学性能的纯碳薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 石墨 烯靶材 制备 及其 磁控溅射 沉积 摩擦 薄膜 中的 应用 | ||
【主权项】：
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