[发明专利]一种半导体激光器芯片腔面的镀膜方法有效

专利信息
申请号: 202110845340.4 申请日: 2021-07-26
公开(公告)号: CN113699488B 公开(公告)日: 2023-07-14
发明(设计)人: 赵军;游顺青;陈锋 申请(专利权)人: 湖北光安伦芯片有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/18;C23C14/08;C23C14/02;C23C8/12;C23C14/58;H01S5/028
代理公司: 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 代理人: 吴静
地址: 436000 湖北省鄂州市葛店*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明属于半导体激光器端面镀膜技术领域,具体涉及一种半导体激光器芯片腔面的镀膜方法,包括如下步骤:1)对待镀膜的芯片进行Bar条解理,夹条,并快速放进蒸发镀膜设备内,抽真空;2)对芯片的出光腔面进行离子源预清洗处理;3)在芯片的出光腔面上镀高增透膜系,高增透膜系至少包括第一Al层和第一AlOX层;具体是先镀Al层,然后利用离子源通入O2进行氧化处理;4)对芯片的背光腔面进行离子源预清洗处理;5)在芯片的背光腔面上镀高反膜系,反膜系至少包括第二Al层和第二AlOX层;先镀Al层,然后利用离子源通入O2进行氧化处理。本发明在芯片前后腔面镀Al层并进行部分氧化,达到保护激光半导体腔面的效果,进而避免腔面因氧化造成的可靠性问题。
搜索关键词: 一种 半导体激光器 芯片 镀膜 方法
【主权项】:
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