[发明专利]一种反射率调节结构、制作方法及显示面板在审
申请号: | 202110845537.8 | 申请日: | 2021-07-26 |
公开(公告)号: | CN113534441A | 公开(公告)日: | 2021-10-22 |
发明(设计)人: | 周健;李文波 | 申请(专利权)人: | 北京京东方技术开发有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02B26/00 | 分类号: | G02B26/00 |
代理公司: | 北京众达德权知识产权代理有限公司 11570 | 代理人: | 梁凯 |
地址: | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了本发明实施例中提供的一种反射率调节结构、制作方法及显示面板,其中所述反射率调节结构包括:弹性介质层和多个嵌入单元;每个嵌入单元包含金属层,多个嵌入单元阵列排布在弹性介质层内部;其中,对弹性介质层进行变形,可嵌入单元之间的间隙改变。本发明的反射率调节结构,其设计不依赖于光学偏振,设计条件要求低,设计结构极化不敏感,可直接用于自然光的环境;且构成该结构的金属层、弹性介质层易于加工,可很好的与现有制造工艺兼容。 | ||
搜索关键词: | 一种 反射率 调节 结构 制作方法 显示 面板 | ||
【主权项】:
暂无信息
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