[发明专利]一种反射电极、显示装置及反射电极制备工艺在审
| 申请号： | 202110845606.5 | 申请日： | 2021-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN113594327A | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | 宋泳锡 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/40 | 分类号： | H01L33/40;H01L27/15 |
| 代理公司： | 北京华夏泰和知识产权代理有限公司 11662 | 代理人： | 吴雪 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请涉及显示技术领域，具体而言，涉及一种反射电极、显示装置及反射电极制备工艺。所述反射电极包括：第一导电层；第二导电层，位于所述第一导电层一侧；以及，导电反射层，为可变形结构，所述导电反射层形成于所述第一导电层和所述第二导电层之间，所述第一导电层和所述第二导电层可受控地驱动所述导电反射层形变，以此改变所述反射电极的反射角度；所述显示装置包括衬底以及上述的反射电极；上述反射电极的制备工艺包括：在第一导电层上形成可变形的导电反射层；在导电反射层背离第一导电层的一侧形成第二导电层。上述反射电极的导电反射层为可控的变形结构，因而在白天或者夜晚时，可以具有不同的反射角度，从而实现可变形的2D‑3D显示。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 反射 电极 显示装置 制备 工艺 | ||
【主权项】：
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