[发明专利]一种基于逐层减薄的金属箔带内应力分布测量方法在审

专利信息
申请号: 202110847128.1 申请日: 2021-07-26
公开(公告)号: CN113533673A 公开(公告)日: 2021-10-22
发明(设计)人: 张青科;宋振纶;杨丽景;胡方勤;郑必长;姜建军 申请(专利权)人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
主分类号: G01N33/20 分类号: G01N33/20;G01N1/28
代理公司: 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 代理人: 王锋
地址: 315201 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种基于逐层减薄的金属箔带内应力分布测量方法,包括:通过用化学方法从大面积金属箔带上切下试样小片,对其进行单面均匀蚀刻,刻蚀多次,每次蚀刻去除相同厚度,测量蚀刻后试样小片沿轧制方向的弯曲变形和曲率半径,依次计算其从表面到内部的内应力,从而获得整个试样厚度范围内的内应力分布。本发明提供的金属箔带内应力分布测量方法简单、低成本、快捷有效,不需要配备特殊设备和工具,采用常用表征手段就可以得出金属箔带整个厚度范围的内应力分布,适用于厚度在50μm以下的多种纯金属及合金箔带,可以为金属箔带的生产工艺优化提供有效的参考数据。
搜索关键词: 一种 基于 逐层减薄 金属 内应力 分布 测量方法
【主权项】:
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