[发明专利]变掺杂JBS结构的半导体器件在审

专利信息
申请号: 202110848081.0 申请日: 2021-07-27
公开(公告)号: CN113594265A 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: 王中旭 申请(专利权)人: 陕西君普新航科技有限公司
主分类号: H01L29/872 分类号: H01L29/872;H01L29/06
代理公司: 西安志帆知识产权代理事务所(普通合伙) 61258 代理人: 侯峰;韩素兰
地址: 710075 陕西省西安市西咸*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种变掺杂JBS结构的半导体器件,该半导体器件包括阴极、衬底、外延层、P区和阳极,所述阴极、衬底、外延层、阳极从下到上依次设置,在所述外延层上沿横向设置若干个P区;每个所述P区包括采用不同掺杂浓度的P1区、P2区,所述P2区设置在P1区上方,并且面向阳极。本发明将P区分为n个区域,并且采用不同的掺杂浓度,从而可以更好的调控电场,获得更强的反向耐压能力。
搜索关键词: 掺杂 jbs 结构 半导体器件
【主权项】:
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