[发明专利]碳化硅晶种及其制造方法、碳化硅晶体的制造方法在审
申请号: | 202110850953.7 | 申请日: | 2021-07-27 |
公开(公告)号: | CN113981537A | 公开(公告)日: | 2022-01-28 |
发明(设计)人: | 林钦山 | 申请(专利权)人: | 环球晶圆股份有限公司 |
主分类号: | C30B29/36 | 分类号: | C30B29/36;C30B23/00 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 贺财俊;刘芳 |
地址: | 中国台湾新竹市*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明提供一种碳化硅晶种及其制造方法、及碳化硅晶体的制造方法。碳化硅晶种具有硅面、以及相对硅面的碳面,其中硅面的基面位错密度BPD1与所述碳面的基面错位密度BPD2之间的差异比D满足下述式(1):D=(BPD1‑BPD2)/BPD1≤25%(1)。 | ||
搜索关键词: | 碳化硅 及其 制造 方法 晶体 | ||
【主权项】:
暂无信息
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