[发明专利]一种基于深度神经网络的光学结构优化设计方法在审

专利信息
申请号: 202110851199.9 申请日: 2021-07-27
公开(公告)号: CN113591298A 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: 杜庆国;喻佳成;陈志伟;王原丽;李政颖;高雅玙 申请(专利权)人: 武汉理工大学
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20;G06N3/00;G06N3/04;G06N3/08
代理公司: 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 代理人: 胡琦旖
地址: 430070 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明属于光学结构设计技术领域,公开了一种基于深度神经网络的光学结构优化设计方法,包括:将待优化的光学结构的参数作为输入,采用基于深度神经网络的光谱预测网络对光谱进行预测;基于预测光谱计算得到目标函数,采用多值自适应粒子群算法对目标函数进行优化,自适应反向寻找优化的光学结构。本发明解决现有技术中光学结构的仿真时间较长、人工调整效率较低以及难以找到全局最优结构参数的问题,能够便捷高效地得到光学属性最优的光学结构。
搜索关键词: 一种 基于 深度 神经网络 光学 结构 优化 设计 方法
【主权项】:
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