[发明专利]新型磁控溅射旋转圆柱N型硅靶及制作方法在审
| 申请号： | 202110852527.7 | 申请日： | 2021-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN113481481A | 公开（公告）日： | 2021-10-08 |
| 发明（设计）人： | 孙巍泉;鲁旗;朱琳;傅斌 | 申请（专利权）人： | 普乐（合肥）光技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 蚌埠鼎力专利商标事务所有限公司 34102 | 代理人： | 王琪 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明给出了一种新型磁控溅射旋转圆柱N型硅靶，包括硅环和金属内筒，硅环通过绑定材料固定在金属内筒外壁上；所述硅环包括硅环段，所述硅环段包括若干N型硅条，若干N型硅条沿金属内筒外壁呈圆周分布。本新型磁控溅射旋转圆柱N型硅靶的优点是靶材密度高，纯度高，成本低，易于加工。本发明给出了一种加工如上述的新型磁控溅射旋转圆柱N型硅靶的制作方法，包括以下步骤：将硅环段依次设置在金属内筒外侧壁上，N型硅条通过铟绑定在金属内筒外壁上；将两个金属定位卡环固定在金属内筒外侧壁上；N型硅材料卡环固定在金属内筒外侧。用N型硅材料切成小块的N型硅条后绑定而成，对于长度方向尺寸大的旋转圆柱靶可以用多段拼接。 | ||
| 搜索关键词： | 新型 磁控溅射 旋转 圆柱 型硅靶 制作方法 | ||
【主权项】：
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