[发明专利]研磨液在审
| 申请号： | 202110855336.6 | 申请日： | 2021-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN114058329A | 公开（公告）日： | 2022-02-18 |
| 发明（设计）人： | 酒井步;有福法久;佐藤武志 | 申请（专利权）人： | 株式会社迪思科 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 于洁;褚瑶杨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | [课题]本发明提供一种研磨液，与使用仅溶解有通过水解显示出碱性的有机盐的水溶液作为研磨液的情况相比，该研磨液可提高研磨速率，并且不含有金属。[解决手段]本发明提供一种研磨液，其是使用将磨粒固定于垫中而成的固定磨粒研磨垫对晶片的一个面进行研磨时所使用的研磨液，其中，该研磨液溶解有通过水解显示出碱性且不含有金属的有机盐、以及不含有金属的有机碱，并且不含有磨粒。优选的是，有机盐由强碱的阳离子和弱酸的阴离子构成，有机碱包含氨、胺以及碱性氨基酸中的一种以上。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 | ||
【主权项】：
暂无信息
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