[发明专利]一种应用于投影光刻机的大视场投影曝光物镜系统有效
| 申请号： | 202110861967.9 | 申请日： | 2021-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN113568281B | 公开（公告）日： | 2023-10-03 |
| 发明（设计）人： | 杨超;胡松;朱咸昌;刘磊;刘锡;位浩杰;金川;韩陈浩磊 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B13/22;G02B1/00 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人： | 江亚平 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种应用于投影光刻机的大视场投影曝光物镜系统，其作用是把投影光刻机掩模版上的图形经过成像复制后转移到硅片上。本发明所涉及的大视场投影曝光物镜系统由20片透镜组成，物镜系统分辨力700nm，放大倍率为‑0.25倍，曝光视场44mm×44mm。本投影曝光物镜系统共轭距(物方到像方)为L＝740mm，系统结构紧凑；同时，选用对i线(365nm)透过率较高的玻璃材料，提高系统光学透过率，采用球面校正系统场曲、畸变和波像差，满足大视场投影光刻机的高精度及高产率需求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 应用于 投影 光刻 视场 曝光 物镜 系统 | ||
【主权项】：
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