[发明专利]一种抑制SRH非辐射复合的Micro LED器件及制备方法在审

专利信息
申请号: 202110863744.6 申请日: 2021-07-29
公开(公告)号: CN113594329A 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: 张紫辉;张沐垚;李青;张勇辉;杭升;郑权 申请(专利权)人: 河北工业大学;东旭集团有限公司
主分类号: H01L33/44 分类号: H01L33/44;H01L33/14;H01L27/15;H01L33/00
代理公司: 天津翰林知识产权代理事务所(普通合伙) 12210 代理人: 赵凤英
地址: 300130 天津市红桥区*** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明为一种抑制SRH非辐射复合的MicroLED器件及制备方法。该器件的外延结构沿着外延生长方向依次包括衬底、缓冲层、第一N‑型半导体材料层和第二N‑型半导体材料层;第二N‑型半导体材料层上依次覆盖有多量子阱层、P‑型电流阻挡层、P‑型半导体材料传输层;每个P‑型半导体材料传输层的中心覆盖有P‑型重掺杂半导体材料传输层;P‑型半导体材料传输层上的非P‑型重掺杂半导体材料传输层区域,覆盖有绝缘限制层,绝缘限制层和半导体材料传输层的上表面,为电流扩展层。本发明可实现更好的电流限制作用,降低MicroLED器件侧壁缺陷引起的SRH非辐射复合,提高器件的空穴注入效率和外量子效率(EQE)。
搜索关键词: 一种 抑制 srh 辐射 复合 micro led 器件 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于河北工业大学;东旭集团有限公司,未经河北工业大学;东旭集团有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110863744.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top