[发明专利]油页岩半焦缓解日光温室基质栽培黄瓜自毒作用的方法在审
| 申请号： | 202110864180.8 | 申请日： | 2021-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN113678697A | 公开（公告）日： | 2021-11-23 |
| 发明（设计）人： | 张国斌;李霞;缑兆辉;张辉;吕剑;唐中祺 | 申请（专利权）人： | 甘肃农业大学 |
| 主分类号： | A01G22/05 | 分类号： | A01G22/05;C01B32/318;C01B32/342;C01B32/348;A01G25/02;A01G13/00;A01G7/06;A01C21/00 |
| 代理公司： | 兰州锦科标联知识产权代理事务所(普通合伙) 62203 | 代理人： | 沈昌武 |
| 地址： | 730000 *** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： |
油页岩半焦缓解日光温室基质栽培黄瓜自毒作用的方法，本发明涉及农业与食品加工，将油页岩半焦粉碎到80目以下，先采用质量浓度为5％‑10％的硫酸或盐酸溶液处理1‑3h，再在300‑500℃下煅烧1‑3h，最后用质量浓度3％‑5％的氢氧化钠或氢氧化钾溶液处理时间1‑2h；在定植前1个月，将温室扣膜，密闭升温，进行高温消毒，消毒时间约15d；移栽前对黄瓜秧苗进行消毒，用50％N‑(2‑苯骈咪唑基)‑氨基甲酸甲酯800倍液进行喷雾；双行错位定植，株距25‑30cm，种植密度51000株/hm |
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| 搜索关键词： | 油页岩 缓解 日光温室 基质 栽培 黄瓜 作用 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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