[发明专利]低分子量聚四氟乙烯的制造方法在审
| 申请号： | 202110867632.8 | 申请日： | 2017-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN113563613A | 公开（公告）日： | 2021-10-29 |
| 发明（设计）人： | 吉田健;吉田裕俊;羽仪圭祐;辻雅之;加藤丈人;田中勇次;山中拓;河原一也;助川胜通;细川和孝 | 申请（专利权）人： | 大金工业株式会社 |
| 主分类号： | C08J3/28 | 分类号： | C08J3/28;C08J3/12;C08F8/50;C08F14/26;C08L27/18 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 庞东成;孟伟青 |
| 地址： | 日本大阪*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供一种低分子量聚四氟乙烯的制造方法，该方法能够容易地从低分子量聚四氟乙烯中除去通过放射线照射而生成的碳原子数为8以上14以下的全氟羧酸及其盐的大部分。一种低分子量聚四氟乙烯的制造方法，其特征在于，其包括下述工序：对聚四氟乙烯照射放射线，得到在380℃的熔融粘度为1×10 |
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| 搜索关键词： | 分子量 聚四氟乙烯 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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