[发明专利]用于生产高品质多晶硅的还原循环氢气深冷除杂的方法及装置在审
| 申请号： | 202110874264.X | 申请日： | 2021-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN113415784A | 公开（公告）日： | 2021-09-21 |
| 发明（设计）人： | 黄国强;黄琪琪;王乃治;张妙磊;张宇 | 申请（专利权）人： | 天津大学 |
| 主分类号： | C01B3/50 | 分类号： | C01B3/50;C01B3/56 |
| 代理公司： | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人： | 王丽 |
| 地址： | 300350 天津市津南区海*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于生产高品质多晶硅的还原循环氢气深冷除杂的方法及装置。硼磷烷‑氯化氢吸收塔塔顶物料经一级气气换热器、二级气气换热器、硼磷烷深冷器三级冷却后，进入二级气气换热分相罐、深冷气气换热分相罐，只深冷氢气，不深冷大量的液体氯硅烷和吸收液；深冷气气换热分相罐气相物料经除硼磷烷吸附柱为一级气气换热器、二级气气换热器和吸收塔进气气冷器提供冷量，后进入活性炭吸附塔；二级气气换热分相罐和深冷气气换热分相罐液相物料为吸收塔进气预冷器、还原尾气液冷器提供冷量，后进入解吸塔；吸收塔塔釜物料经逐级换热后进入解吸塔。本发明深冷除杂技术只深冷氢气不深冷液相，具有新颖性和创新性，且杂质吸收率可达95％以上。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 生产 品质 多晶 还原 循环 氢气 方法 装置 | ||
【主权项】：
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