[发明专利]一种光刻胶的清洗方法在审
| 申请号： | 202110879426.9 | 申请日： | 2021-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN113467201A | 公开（公告）日： | 2021-10-01 |
| 发明（设计）人： | 夏建文;黄明起;叶振文;刘彬灿;易玉玺;刘献伟 | 申请（专利权）人： | 深圳市化讯半导体材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 潘登 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种光刻胶的清洗方法。所述清洗方法包括如下步骤：(1)将基板包含光刻胶的一面置于紫外光下老化，得到经老化处理的基板；(2)使用光刻胶清洗剂对步骤(1)得到的经老化处理的基板进行清洗，完成基板上光刻胶的清洗；所述光刻胶清洗液包括如下重量份数的组分：季胺氢氧化物1～20份、醇胺1～10份、表面活性剂0.01～10份和溶剂60～98份。本发明通过采用对包含光刻胶基板的先进行紫外光照射老化处理，再使用光刻胶清洗剂进行清洗的方法，在不增大光刻胶清洗剂碱性且不使用其他腐蚀抑制剂的情况下，完成基板上光刻胶的清洗，得到了表面无光刻胶残留、无腐蚀的基板。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 清洗 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市化讯半导体材料有限公司，未经深圳市化讯半导体材料有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110879426.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种矮卫矛嫩枝扦插繁殖方法
- 下一篇：杂散光吸收装置
