[发明专利]一种量化绕镀的方法及镀膜设备的调整方法在审
申请号: | 202110879960.X | 申请日: | 2021-07-29 |
公开(公告)号: | CN113584464A | 公开(公告)日: | 2021-11-02 |
发明(设计)人: | 王金;余义 | 申请(专利权)人: | 通威太阳能(安徽)有限公司 |
主分类号: | C23C16/52 | 分类号: | C23C16/52;C23C16/24;C23C16/40;H01L21/02;H01L31/18 |
代理公司: | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 唐菲 |
地址: | 230088 安徽省合*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本申请提供一种量化绕镀的方法及镀膜设备的调整方法,属于太阳能电池镀膜技术领域。量化绕镀的方法包括:将标片上料到镀膜设备;标片包括硅片及形成于硅片两侧表面的第一氧化硅层和第二氧化硅层;在第一氧化硅层表面进行镀膜作业,以在第一氧化硅层表面形成镀膜层并在第二氧化硅层表面边缘形成绕镀层;对绕镀层的尺寸进行测量获得绕镀尺寸。镀膜设备的调整方法包括:采用量化绕镀的方法获取绕镀尺寸,镀膜作业包括依次进行本征非晶硅镀膜和N型掺杂非晶硅镀膜;将绕镀尺寸与预设标准比较;当绕镀尺寸不满足预设标准时,对镀膜设备的载板进行调节。该量化绕镀的方法在镀膜后能够及时地获取绕镀的情况,还能避免后道生产工序对评估结果的影响。 | ||
搜索关键词: | 一种 量化 方法 镀膜 设备 调整 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的