[发明专利]一种制备红外光学材料的化学气相沉积系统及方法有效
申请号: | 202110880334.2 | 申请日: | 2021-08-02 |
公开(公告)号: | CN113667965B | 公开(公告)日: | 2023-04-11 |
发明(设计)人: | 张树玉;甄西合;徐悟生;朱逢旭;邰超;赵丽媛 | 申请(专利权)人: | 江苏鎏溪光学科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/448;C23C16/52 |
代理公司: | 苏州德坤知识产权代理事务所(普通合伙) 32523 | 代理人: | 查杰 |
地址: | 215600 江苏省苏州市张*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种制备红外光学材料的化学气相沉积系统,包括依次连接的原料坩埚、进气用坩埚盖、沉积室和排气装置,沉积室内设置有至少两块沉积分隔板并分割为多个首尾贯通的沉积室,首端的沉积室对应的进气用坩埚盖上设置有多个第一进气嘴和多个第二进气嘴,第一进气嘴与原料坩埚贯通设置,进气用坩埚盖上还设置有与原料坩埚贯通的第一进气通道以及与第二进气嘴贯通的第二进气通道;还公开一种化学气相沉积方法,通过对第一原料、载气、第二原料气体和稀释气体的摩尔比限定,从而匹配系统制备。本发明能够显著提升材料的性能,提高材料的厚度均匀性以及原料的利用率,非常适于大尺寸、高质量红外光学材料的生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 制备 红外 光学材料 化学 沉积 系统 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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