[发明专利]宽温度工作单片多波长高速DFB激光光源外延层结构、芯片及其制备方法有效
申请号: | 202110895135.9 | 申请日: | 2021-08-05 |
公开(公告)号: | CN113594858B | 公开(公告)日: | 2022-10-14 |
发明(设计)人: | 薛正群 | 申请(专利权)人: | 福建中科光芯光电科技有限公司 |
主分类号: | H01S5/343 | 分类号: | H01S5/343;H01S5/34;H01S5/20;H01S5/12;H01S5/042 |
代理公司: | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人: | 丘鸿超;蔡学俊 |
地址: | 362712 福建省泉州市*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提出一种宽温度工作单片多波长高速DFB激光光源外延层结构、芯片及其制备方法,其特征在于:在下波导层和上波导层之间设置有应变补偿多量子阱;所述应变补偿多量子阱包括:下部的经第一高温处理的压应变AlGaInAs量子阱、中部的经第二高温处理的压应变AlGaInAs量子阱、以及上部的不经高温处理的压应变AlGaInAs量子阱。其可实现超过工业级温度范围单模工作,并实现在单片上的多波长DFB阵列激光光源,同时可实现不同DFB波长的精确调控,产品可应用在5G无线网、数据中兴等应用领域,提高应用端的集成度并降低应用成本。 | ||
搜索关键词: | 温度 工作 单片 波长 高速 dfb 激光 光源 外延 结构 芯片 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福建中科光芯光电科技有限公司,未经福建中科光芯光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110895135.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种锡膏自动装盖机
- 下一篇:一种填埋场高效导排结构