[发明专利]一种位错特征的三维图示化表示方法在审
申请号: | 202110901900.3 | 申请日: | 2021-08-06 |
公开(公告)号: | CN113506366A | 公开(公告)日: | 2021-10-15 |
发明(设计)人: | 冯宗强;劳洲界;杨涵;王子今;符锐;黄晓旭 | 申请(专利权)人: | 重庆大学 |
主分类号: | G06T17/00 | 分类号: | G06T17/00;G06T7/00;G06T7/90 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 王雨 |
地址: | 400000 *** | 国省代码: | 重庆;50 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种位错特征的三维图示化表示方法,通过透射电镜获取样品中位错不同角度下的图像,并进行三维重构获得位错在晶体坐标系下描述的三维图像,根据位错的三维图像获得位错的线方向。然后根据位错的线方向和位错的柏氏矢量获得位错的组分信息,根据位错的线方向获得位错与预设晶面的空间关系,并在位错的三维图像中展示位错组分信息的空间分布和位错与预设晶面的空间关系。本发明实现了在位错的三维图像中表征位错特征,能够精确、直观地表征两类位错特征,为位错相关基础科学问题研究提供了技术基础。 | ||
搜索关键词: | 一种 特征 三维 图示 表示 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于重庆大学,未经重庆大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110901900.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。