[发明专利]一种光学器件的微纳加工方法在审
申请号: | 202110919640.2 | 申请日: | 2021-08-11 |
公开(公告)号: | CN113696524A | 公开(公告)日: | 2021-11-26 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 苏州易锐光电科技有限公司 |
主分类号: | B29D11/00 | 分类号: | B29D11/00;C03B19/00 |
代理公司: | 苏州领跃知识产权代理有限公司 32370 | 代理人: | 石伍军 |
地址: | 215000 江苏省苏州市工业园区*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本申请涉及一种光学器件的微纳加工方法,所述方法包括如下步骤:S101、对衬底基板进行预制加工,所述衬底基板包括第一表面和相背的第二表面,利用激光在所述衬底基板的第一表面上制备至少一个预制部;S102、将光学功能材料放入所述衬底基板的第一表面上制备的预制部内;S103、将放入所述预制部的光学功能材料进行热熔回流处理,冷却后得到光学器件。本申请的光学器件的微纳加工方法采用完全不同的技术路线,用激光对衬底基板进行预加工出预制部,将光学功能材料放入预制部并进行热熔回流处理,具有工艺控制过程简化、过程无污染、产品良率稳定的优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 光学 器件 加工 方法 | ||
【主权项】:
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