[发明专利]凹槽掩模版的制作方法在审
| 申请号： | 202110926627.X | 申请日： | 2021-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN113641078A | 公开（公告）日： | 2021-11-12 |
| 发明（设计）人： | 王栋;谢超;侯广杰 | 申请（专利权）人： | 深圳市龙图光电有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/80 | 分类号： | G03F1/80;G03F1/68;G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳壹舟知识产权代理事务所(普通合伙) 44331 | 代理人： | 欧志明 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明属于掩模版制造技术领域，尤其涉及一种凹槽掩模版的制作方法，包括：预备基板：预备透光基板，其中，透光基板具有图形板面；开槽加工：在所述图形板面上加工出圆环状的凹槽；镀铬涂胶：在所述图形板面以及所述凹槽的槽壁、槽底上先镀铬层，再涂光刻胶层；光刻处理：先曝光再显影，使所述铬层呈现出预设图形结构。本发明相对于现有技术，降低了加工凹槽对产品良率的影响，提高了产品良品率。 | ||
| 搜索关键词： | 凹槽 模版 制作方法 | ||
【主权项】：
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
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