[发明专利]光学成像系统及头戴式显示设备有效
| 申请号： | 202110939655.5 | 申请日： | 2021-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN113589535B | 公开（公告）日： | 2023-01-03 |
| 发明（设计）人： | 周健 | 申请（专利权）人： | 北京京东方技术开发有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/01 | 分类号： | G02B27/01 |
| 代理公司： | 北京众达德权知识产权代理有限公司 11570 | 代理人： | 李娇 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光学成像系统及头戴式显示设备，包括显示模组以及超透镜，显示模组显示目标对象时发出的第一线偏振光经超透镜准直并成像到人眼上。其中，超透镜包括第一基板以及预设旋转规律排布在第一基板表面的多种超结构单元，每种超结构单元在可见光波段的补偿相位与入射光角频率满足线性关系，从超透镜的中心位置到边缘位置，不同超结构单元对应的所述线性关系的斜率依次降低。相比于传统成像系统，有利于实现头戴式显示设备的轻薄化。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 成像 系统 头戴式 显示 设备 | ||
【主权项】：
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