[发明专利]一种忆阻器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110941110.8 申请日: 2021-08-17
公开(公告)号: CN113725357A 公开(公告)日: 2021-11-30
发明(设计)人: 俞景豪;刘晓艳;华传洋;王正;叶鹏飞;王磊;童祎 申请(专利权)人: 南京邮电大学
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 代理人: 董建林
地址: 210023 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种忆阻器及其制备方法,所述忆阻器包括自下而上依次设置的基底、底电极层、功能材料层、顶电极层以及顶电极保护层,其特征在于,所述功能材料层和顶电极层之间设置有阻挡层,所述阻挡层由Nb2C覆盖在MAPbI3层上表面制备而成。本发明引入阻挡层制备形成的忆阻器,且配置有顶电极保护层,具有稳定性好、导电性佳的特点,具有广阔的应用前景,同时本发明的制备方法简便高效,成本较低,适合在产业上广泛应用。
搜索关键词: 一种 忆阻器 及其 制备 方法
【主权项】:
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