[发明专利]一种切割半导体晶圆片的激光光学系统和方法在审

专利信息
申请号: 202110943170.3 申请日: 2021-08-17
公开(公告)号: CN113634875A 公开(公告)日: 2021-11-12
发明(设计)人: 洪觉慧;朱进东;魏少东;陆晓绵;侯效彬 申请(专利权)人: 南京魔迪多维数码科技有限公司
主分类号: B23K26/02 分类号: B23K26/02;B23K26/064;B23K26/362;B23K26/38;B23K26/402;B23K26/60;B23K26/70
代理公司: 南京中擎科智知识产权代理事务所(普通合伙) 32549 代理人: 洪黎
地址: 210000 江苏省南京市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种切割半导体晶圆片的方法,其特征在于,所述方法包括:通过视觉系统确定晶圆体的切割位置和方向,使得激光抄表器放置在晶圆片之间的切割间隙上;由激光器发射的激光通过光学元件调整后进入激光振镜,所述晶圆片夹持在两维运动平台上,通过控制系统同时控制激光振镜和运动平台协作补偿运动,使激光按既定路径进行划线切割。本发明的激光切割方法消除了机械应力,并能够将整个晶片堆和半导体基质进行精确切割。激光处理还可以缩小切割间隔,减少晶圆体上晶片之间所需空间的浪费。节省下宝贵的空间可以用来进行晶片的二次加工。
搜索关键词: 一种 切割 半导体 晶圆片 激光 光学系统 方法
【主权项】:
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