[发明专利]使用卷积技术将自适应偏移项添加到局部自适应二值化表达式在审

专利信息
申请号: 202110943775.2 申请日: 2021-08-16
公开(公告)号: CN115880349A 公开(公告)日: 2023-03-31
发明(设计)人: 王亮亮;高文海;俞波 申请(专利权)人: 安霸国际有限合伙企业
主分类号: G06T7/521 分类号: G06T7/521;G06T7/11
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 刘瑜
地址: 加拿大*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种装置,其包括接口、结构光投射器以及处理器。接口可以接收像素数据。结构光投射器可以生成结构光图案。所述处理器可以对布置为视频帧的所述像素数据进行处理,使用卷积神经网络执行操作以确定二值化结果和偏移值,以及响应于所述视频帧、所述结构光图案、所述二值化结果、所述偏移值和误差点的去除来生成视差图和深度图。所述卷积神经网络可以执行部分块求和以生成卷积结果,将所述卷积结果与散斑值进行比较以确定所述偏移值,响应于执行卷积操作来生成自适应结果,将所述视频帧与所述自适应结果进行比较以生成所述视频帧的所述二值化结果,并从所述二值化结果中去除所述误差点。
搜索关键词: 使用 卷积 技术 自适应 偏移 添加 局部 二值化 表达式
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安霸国际有限合伙企业,未经安霸国际有限合伙企业许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110943775.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top