[发明专利]使用卷积技术将自适应偏移项添加到局部自适应二值化表达式在审
申请号: | 202110943775.2 | 申请日: | 2021-08-16 |
公开(公告)号: | CN115880349A | 公开(公告)日: | 2023-03-31 |
发明(设计)人: | 王亮亮;高文海;俞波 | 申请(专利权)人: | 安霸国际有限合伙企业 |
主分类号: | G06T7/521 | 分类号: | G06T7/521;G06T7/11 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 刘瑜 |
地址: | 加拿大*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种装置,其包括接口、结构光投射器以及处理器。接口可以接收像素数据。结构光投射器可以生成结构光图案。所述处理器可以对布置为视频帧的所述像素数据进行处理,使用卷积神经网络执行操作以确定二值化结果和偏移值,以及响应于所述视频帧、所述结构光图案、所述二值化结果、所述偏移值和误差点的去除来生成视差图和深度图。所述卷积神经网络可以执行部分块求和以生成卷积结果,将所述卷积结果与散斑值进行比较以确定所述偏移值,响应于执行卷积操作来生成自适应结果,将所述视频帧与所述自适应结果进行比较以生成所述视频帧的所述二值化结果,并从所述二值化结果中去除所述误差点。 | ||
搜索关键词: | 使用 卷积 技术 自适应 偏移 添加 局部 二值化 表达式 | ||
【主权项】:
暂无信息
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