[发明专利]用于空中成像的二面角反射器阵列结构在审
申请号: | 202110956578.4 | 申请日: | 2021-08-19 |
公开(公告)号: | CN113655629A | 公开(公告)日: | 2021-11-16 |
发明(设计)人: | 张亮亮;李军昌 | 申请(专利权)人: | 安徽省东超科技有限公司 |
主分类号: | G02B30/56 | 分类号: | G02B30/56;G02B5/124 |
代理公司: | 北京知帆远景知识产权代理有限公司 11890 | 代理人: | 刘继昂 |
地址: | 230088 安徽省合肥市高*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: |
本发明公开了一种用于空中成像的二面角反射器阵列结构,其设有由多个逆向曲面组成的逆向曲面阵列、由多个顺向曲面组成的顺向曲面阵列,逆向曲面、顺向曲面均为反射面。逆向曲面阵列的垂直投影为逆向曲线阵列,逆向曲线阵列的极坐标方程为r=A |
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搜索关键词: | 用于 空中 成像 二面角 反射 阵列 结构 | ||
【主权项】:
暂无信息
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