[发明专利]一种提高视场选通成像系统视场占空比的方法有效

专利信息
申请号: 202110962790.1 申请日: 2021-08-20
公开(公告)号: CN113835211B 公开(公告)日: 2023-06-30
发明(设计)人: 方亮;张辉;廖志远;程欣;谭述亮;范真节 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: G02B23/04 分类号: G02B23/04;G01C21/02
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人: 江亚平
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种提高视场选通成像系统视场占空比的方法,该方法包括:在视场选通成像系统一次像面附近添加一组微透镜阵列,与后组微透镜阵列形成微透镜阵列组;添加的一组微透镜阵列中,每个微透镜单元均作为场镜,用于将选通视场内的边缘视场光线偏转,并使其通过后组微透镜单元,从而减小选通视场内成像的渐晕。另一方面,利用分光镜将视场选通成像系统一次像面一分为二,分别对两个一次像面进行视场选通,且选通的视场范围相互交错。本发明所述的一种提高视场选通成像系统视场占空比的方法可以解决现有视场选通成像系统边缘视场由于渐晕而导致成像分辨率低以及视场占空比不足等问题,为实现强背景光下的多星探测提供一种有效的技术途径。
搜索关键词: 一种 提高 视场 成像 系统 方法
【主权项】:
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