[发明专利]一种利用宏观不均匀扩散制备高矫顽力钕铁硼磁体的方法有效

专利信息
申请号: 202110965198.7 申请日: 2021-08-23
公开(公告)号: CN113808839B 公开(公告)日: 2022-12-16
发明(设计)人: 刘仲武;宋文玥;何家毅;余红雅;钟喜春;邱万奇 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: H01F41/02 分类号: H01F41/02;H01F1/057
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人: 殷妹
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明属于钕铁硼稀土永磁体制备技术领域,具体涉及一种利用宏观不均匀扩散制备高矫顽力钕铁硼磁体的方法。本发明同时利用两种不同的晶界扩散剂对钕铁硼磁体进行晶界扩散处理,将非重稀土扩散剂涂覆于钕铁硼磁体易面的表面中心部位,钕铁硼磁体易面的剩余部位涂覆重稀土扩散剂,随后进行扩散热处理,提高磁体矫顽力。相比利用单一重稀土扩散剂或非重稀土扩散剂处理的磁体,本发明采用的宏观不均匀扩散可使磁体的矫顽力有更大幅度的提升,同时能节约重稀土元素,并使其得到充分利用。此外,本发明中通过调整两种扩散剂涂覆面积比例,可以实现不同成分磁体性能最大幅度的提升,也可以有效调控磁体的性能,比单一均匀扩散更具灵活性。
搜索关键词: 一种 利用 宏观 不均匀 扩散 制备 矫顽力 钕铁硼 磁体 方法
【主权项】:
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