[发明专利]超宽幅线阵影像附加约束条件的正射纠正方法有效
| 申请号： | 202110969779.8 | 申请日： | 2021-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN113902626B | 公开（公告）日： | 2023-05-05 |
| 发明（设计）人： | 周国清;刘星星 | 申请（专利权）人： | 桂林理工大学 |
| 主分类号： | G06T5/00 | 分类号： | G06T5/00;G06T3/00;G06T17/05;G01C11/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 541004 广西壮*** | 国省代码： | 广西;45 |
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| 摘要： | 本发明针对超宽幅线阵影像行间外方位元素具有强相关性和线阵传感器边缘畸变大的缺陷，提出了附加约束条件(角度一致约束、共面约束)的超宽幅线阵影像严密正射纠正方法，包括：(1)地面控制点采集；(2)构建附加约束条件的严密模型；(3)超宽幅线阵影像严密正射纠正处理。本发明通过约束条件将外方位元素进行解耦，提升了超宽幅线阵影像外方位元素的求解精度，改善了超宽幅线阵影像的正射纠正结果，为超宽幅线阵影像的正射纠正提供了新的解决方案，扩展了超宽幅线阵影像的应用范围。并且该模型受控制点数量和初始值精度的影响较小，可以在选择相对较少控制点的同时达到更高的解算精度，减少了外业工作量，节省了人力物力。 | ||
| 搜索关键词： | 宽幅 影像 附加 约束条件 纠正 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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