[发明专利]一种用于光学散射的库匹配方法、系统、服务器及存储介质有效

专利信息
申请号: 202110972428.2 申请日: 2021-08-23
公开(公告)号: CN113566739B 公开(公告)日: 2023-06-13
发明(设计)人: 马骏;张厚道;史玉托;李伟奇;郭春付;陶泽 申请(专利权)人: 上海精测半导体技术有限公司
主分类号: G01B11/24 分类号: G01B11/24;G01B11/22;G01B11/02;G01B11/00
代理公司: 武汉蓝宝石专利代理事务所(特殊普通合伙) 42242 代理人: 赵红万
地址: 201700 上海市青浦区*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种用于光学散射的库匹配方法、系统、服务器及可读存储介质,本发明通过针对待测目标建立理论光谱库,设置形貌参数的名义值,而后对形貌参数理论光谱库插值,得到所述形貌参数名义值对应的插值理论光谱,并通过测量得到测量光谱,计算测量光谱与理论光谱的偏差值,偏差值不满足阈值条件时,对所述形貌参数名义值进行更新,直至偏差值满足阈值条件,实现了在不影响提取准确度的情况下提高提取速度,解决了现有技术中存在的提取速度慢、提取准确度低的技术问题。
搜索关键词: 一种 用于 光学 散射 匹配 方法 系统 服务器 存储 介质
【主权项】:
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