[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 202110972491.6 申请日: 2021-08-24
公开(公告)号: CN114388500A 公开(公告)日: 2022-04-22
发明(设计)人: 李元赫;朴钟撤;朴商德;申洪湜;李道行 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088;H01L23/48;H01L23/528
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 尹淑梅;任旭
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 公开了一种半导体装置。所述半导体装置包括:第一源极/漏极图案和第二源极/漏极图案,在有源图案上且彼此分隔开;第一源极/漏极接触件,在第一源极/漏极图案上且包括第一源极/漏极阻挡膜和在第一源极/漏极阻挡膜上的第一源极/漏极填充膜;第二源极/漏极接触件,在第二源极/漏极图案上;以及栅极结构,在第一源极/漏极接触件与第二源极/漏极接触件之间在有源图案上且包括栅电极,其中,第一源极/漏极接触件的顶表面比栅极结构的顶表面低,并且从有源图案的顶表面到第一源极/漏极阻挡膜的顶表面的高度比从有源图案的顶表面到第一源极/漏极填充膜的顶表面的高度小。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
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