[发明专利]一种用于制备N型选择性发射极晶硅电池的选择性扩散方法及其应用在审
申请号: | 202110988456.3 | 申请日: | 2021-08-26 |
公开(公告)号: | CN113948607A | 公开(公告)日: | 2022-01-18 |
发明(设计)人: | 胡党平;赵文祥;赵迎财;廖晖;马玉超;王义福;单伟;何胜;徐伟智;黄海燕 | 申请(专利权)人: | 浙江正泰太阳能科技有限公司;海宁正泰新能源科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0352;H01L31/068 |
代理公司: | 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 | 代理人: | 何俊 |
地址: | 310051 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明涉及N型晶硅电池技术领域,公开了一种用于制备N型选择性发射极晶硅电池的选择性扩散方法,包括以下步骤:(1)在制绒后的硅片正面进行低浓度硼扩散,形成轻掺杂层;(2)在轻掺杂层上沉积非晶硅,形成非晶硅层;(3)对非晶硅层进行激光开槽,以去除金属接触区域的非晶硅;(4)在去除非晶硅后的金属接触区域进行高浓度硼扩散,形成重掺杂层;(5)清洗,以去除非金属区域的非晶硅。本发明的选择性扩散方法采用非晶硅层作为掩膜,能防止形成的掺杂层中硼浓度不可控,有利于提高N型晶硅电池的开路电压、短路电流和填充因子。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 制备 选择性 发射极 电池 扩散 方法 及其 应用 | ||
【主权项】:
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