[发明专利]一种机台、成膜控制方法、控制器及系统在审

专利信息
申请号: 202110990568.2 申请日: 2021-08-26
公开(公告)号: CN113667963A 公开(公告)日: 2021-11-19
发明(设计)人: 涂文骏;方迪;张高升;罗兴安;周毅 申请(专利权)人: 长江存储科技有限责任公司
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44;C23C16/34;C23C16/40;C23C16/455;C23C16/52
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 柳虹
地址: 430074 湖北省武汉*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 本申请提供了一种机台、成膜控制方法、控制器及系统,机台可以包括喷淋头和多孔部件,其中喷淋头可以向反应腔室中通入反应气体,以在待处理晶圆上形成膜层,多孔部件位于反应气体的通路中,且具有多个通孔,多个通孔分别对应待处理晶圆表面的不同位置,反应气体经过多个通孔达到待处理晶圆表面上与多个通孔对应的位置,多个通孔的开度可调,这样通过调节通孔的开度,从而调节通孔中的反应气体的流量,进而可以控制到达待处理晶圆表面该通孔对应的位置的反应气体的量,控制该位置的膜层的生长速度,从而控制该位置膜层的厚度,因此通过控制多个通孔的开度可以控制待处理晶圆上的不同位置的膜层厚度,以满足不同的需求。
搜索关键词: 一种 机台 控制 方法 控制器 系统
【主权项】:
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