[发明专利]一种大气压下激光解析VUV灯后电离成像装置在审

专利信息
申请号: 202110992537.0 申请日: 2021-08-27
公开(公告)号: CN113834870A 公开(公告)日: 2021-12-24
发明(设计)人: 李海洋;曹艺雪;陈平;文宇轩;陈懿 申请(专利权)人: 中国科学院大连化学物理研究所
主分类号: G01N27/626 分类号: G01N27/626
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 代理人: 何丽英
地址: 116023 辽宁省*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明涉及激光熔融电离技术领域,特别涉及一种大气压下激光解析VUV灯后电离成像装置。包括:激光光路系统、成像系统及电离源系统,激光光路系统通过激光对样品表面进行解析产生样品分子;成像系统,对激光解析位点进行成像;电离源系统,通过紫外线光电离由激光光路系统解析的样品分子。本发明采用激光实现样品的解析,并用VUV灯后电离样品分子,SPI软电离源降低谱图复杂性,同时通过成像系统在线监测解析位点,实现三维成像分析;该电离源具有常压操作简便、软电离、可视化的特点,适合固态/液态样品的成像分析。
搜索关键词: 一种 大气 压下 激光 解析 vuv 电离 成像 装置
【主权项】:
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