[发明专利]一种耐曝光异氰酸酯组合物和制备方法及其在制备高强度聚氨酯光学树脂中的应用有效
申请号: | 202111008099.6 | 申请日: | 2021-08-31 |
公开(公告)号: | CN113667094B | 公开(公告)日: | 2023-03-03 |
发明(设计)人: | 吴谦;尚永华;俞涛;李建峰;朱付林;史培猛;李文滨;丰茂英;华卫琦;黎源 | 申请(专利权)人: | 万华化学(宁波)有限公司;万华化学集团股份有限公司 |
主分类号: | C08G18/67 | 分类号: | C08G18/67;C08F283/00;C08F226/06;G02B1/04 |
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地址: | 315812 浙江省宁波*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明提供一种耐曝光异氰酸酯组合物和制备方法及其在制备高强度聚氨酯光学树脂中的应用。耐曝光异氰酸酯组合物其组成包括任意一种或至少两种异氰酸酯和3‑甲基丙烯酰多巴胺(DMA);之后进一步添加多元硫醇化合物、1‑乙烯基‑1,2,4‑三唑(VTA)、催化剂、紫外吸收剂、脱模剂和引发剂后制备得到一种具有双网络结构的聚氨酯树脂光学材料,不但力学性能和热学性能有明显改善,同时光学树脂的透射比和黄度指数(YI)也能保持在较好的水平。 | ||
搜索关键词: | 一种 曝光 氰酸 组合 制备 方法 及其 强度 聚氨酯 光学 树脂 中的 应用 | ||
【主权项】:
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