[发明专利]对准标记的形成方法在审
| 申请号： | 202111012207.7 | 申请日： | 2021-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN113725195A | 公开（公告）日： | 2021-11-30 |
| 发明（设计）人： | 王思聪;于洪浩 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | H01L23/544 | 分类号： | H01L23/544;H01L27/11524;H01L27/11551;H01L27/1157;H01L27/11578 |
| 代理公司： | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人： | 孙佳胤;陈丽丽 |
| 地址： | 430074 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种对准标记的形成方法。所述对准标记的形成方法包括如下步骤：形成对准图案和环绕所述对准图案外周分布的介质层，所述对准图案包括呈周期性排布的多个第一重复结构单元，所述第一重复结构单元用于增大所述对准图案与所述介质层之间的反射率差；获取所述对准图案的对准反射率、以及所述介质层的介质反射率；判断所述对准反射率与所述介质反射率之间的差值是否高于预设值，若是，则以所述对准图案作为所述对准标记。本发明确保了最终得到的所述对准标记与所述介质层之间的具有较高的反射率差，实现了所述对准标记与所述介质层之间明暗对比度的增大，能够提高对对准标记识别的准确度与清晰度。 | ||
| 搜索关键词： | 对准 标记 形成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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