[发明专利]具有高通量和高去除率MXene/还原多孔氧化石墨烯(r-HGO)复合膜的制备方法有效
| 申请号： | 202111018906.2 | 申请日： | 2021-09-01 |
| 公开（公告）号： | CN113648850B | 公开（公告）日： | 2022-10-21 |
| 发明（设计）人： | 刘婷;郭士轩;孙克宁;刘勋 | 申请（专利权）人： | 北京理工大学 |
| 主分类号： | B01D69/12 | 分类号： | B01D69/12;B01D67/00;B01D71/02;B01D71/68;B01D69/02;C02F1/44;C02F101/30 |
| 代理公司： | 北京卓胜佰达知识产权代理有限公司 16026 | 代理人： | 刘冬梅 |
| 地址： | 100081 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种具有高通量和高去除率MXene/还原多孔氧化石墨烯(r‑HGO)复合膜的制备方法，属于环保水处理领域。本发明将氧化石墨烯(GO)蚀刻并还原为还原多孔氧化石墨烯(r‑HGO)，将Ti |
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| 搜索关键词： | 具有 通量 去除 mxene 还原 多孔 氧化 石墨 hgo 复合 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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