[发明专利]球面元件表面缺陷散射探测装置和测量方法在审

专利信息
申请号: 202111019953.9 申请日: 2021-09-01
公开(公告)号: CN113884505A 公开(公告)日: 2022-01-04
发明(设计)人: 刘世杰;倪开灶;邵建达;李岚清;杨为香 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G01N21/95 分类号: G01N21/95;G01N21/88;G01N21/01
代理公司: 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 代理人: 张宁展
地址: 201800 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种球面元件表面缺陷散射探测装置和测量方法,利用球面元件的轴对称性,通过球面元件快速旋转和散射暗场探测实现全口径快速高灵敏度测量。通过在不同方位角设置光电探测器采集表面缺陷的散射光,提升了对不同方向的线状表面缺陷探测能力。本发明实现了原位球面元件定中调节和表面缺陷测量,避免了分离调节测量引起的定位误差,同时避免了已有的暗场成像测量系统结构和光源调节的复杂性。
搜索关键词: 球面 元件 表面 缺陷 散射 探测 装置 测量方法
【主权项】:
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