[发明专利]一种基于介质微球超分辨成像的复合光刻对准系统及方法在审
申请号: | 202111027353.7 | 申请日: | 2021-09-02 |
公开(公告)号: | CN113655695A | 公开(公告)日: | 2021-11-16 |
发明(设计)人: | 蒋文波;王画然 | 申请(专利权)人: | 西华大学 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00 |
代理公司: | 成都正华专利代理事务所(普通合伙) 51229 | 代理人: | 李蕊 |
地址: | 610039 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于介质微球超分辨成像的复合光刻对准系统及方法,包括分束器,分束器的一端依次安装有显微物镜、掩膜和硅片,分束器的另一端依次安装有低通滤波片、镜筒透镜和CMOS相机,所述分束器的一侧安装有激光器,所述激光器与分束器之间设置有柯勒照明系统;掩膜的一端设有介质微球层,掩膜上设有第一对准标记、第二对准标记和第三对准标记,硅片上设有与掩膜上标记分别匹配的第四对准标记、第五对准标记和第六对准标记。本发明通过设置低通滤波片、柯勒照明系统和介质微球层等光学器件或子系统,提高了对准图像的分辨率;并通过粗对准、精对准预处理和精对准等步骤,实现了掩膜和硅片的高精度对准。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 介质 微球超 分辨 成像 复合 光刻 对准 系统 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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