[发明专利]一种靶材结构及其制作方法有效

专利信息
申请号: 202111027798.5 申请日: 2021-09-02
公开(公告)号: CN113699499B 公开(公告)日: 2023-06-16
发明(设计)人: 温质康;乔小平;苏智昱 申请(专利权)人: 福建华佳彩有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 福州君诚知识产权代理有限公司 35211 代理人: 戴雨君
地址: 351100 福*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明涉及一种靶材结构及其制作方法,所述靶材结构包括铜背板,铜背板上设有靶材,所述靶材分隔成若干块设在铜背板上,每块靶材与铜背板之间设有绑定金属层,所述绑定金属层由铜铟合金成型,若干块靶材之间形成靶材间隙,所述靶材间隙设有填充物。本发明通过在靶材间隙处设置填充物,该填充物在磁控溅射的环境中,不会被高能电子轰击出原子,其化学结构稳定,由于靶材间隙中的铜背板是直接裸露的,该方案在靶材间隙填充填充物物不仅可以阻挡高能电子直接轰击裸露的铜背板,阻挡溅射出来的铜原子污染靶材材料以及器件中的薄膜纯度,而且作为靶材之间的中间填充物,有利于综合靶材由于热胀冷缩而产生的向左右拉伸的应力,减少靶材开裂和变形的风险。
搜索关键词: 一种 结构 及其 制作方法
【主权项】:
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